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Article
- 차세대 ULSI interconnection을 위한 CVD 저유전율 박막 개발
- Yun-Hae Kim, Hyeong-Jun Kim
- Ceramist. 2001;4(1):5-13. Published online February 28, 2001
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Reviews
- 구리반도체용 저유전재료의 신뢰성 평가
- Guk-Heon Cha, Sang-Hyeon Ju, Yeong-Chang Ju
- Ceramist. 2001;4(1):14-25. Published online February 28, 2001
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- 반도체 다층배선의 층간 절연막으로서의 플라즈마 중합 유기박막
- Dong-Geun Jeong
- Ceramist. 2001;4(1):26-35. Published online February 28, 2001
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- 저유전재료 연구개발동향
- Chun-Geun Yu
- Ceramist. 2001;4(1):36-41. Published online February 28, 2001
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Article
- 0.1㎛ 이하 소자개발에서의 고유전 산화 박막의 개발
- Man-Ho Jo
- Ceramist. 2001;4(1):42-45. Published online February 28, 2001
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Reviews
- 차세대 MOSFET 소자용 고유전율 게이트 절연막 기술
- Hyeon-Sang Hwang
- Ceramist. 2001;4(1):46-55. Published online February 28, 2001
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- 원자층 증착 기술의 반도체 응용
- Won-Yong Go
- Ceramist. 2001;4(1):56-60. Published online February 28, 2001
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- 고유전율 에피텍셜 유전체박막
- Seong-Jin Jeon, Jae-Chan Lee
- Ceramist. 2001;4(1):61-66. Published online February 28, 2001
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- 반도체 배선을 위한 구리 증착 기술의 개발 현황
- Seung-Gon Park, Do-Hyeong Kim
- Ceramist. 2001;4(1):67-74. Published online February 28, 2001
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Article
- C-49 TiSi2를 확산원으로 사용하여 제작한 n+/p 접합의 누설 전류 억제에 관한 연구
- Dong-Gyun Son
- Ceramist. 2001;4(1):75-81. Published online February 28, 2001
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Review
- 연료극 지지체형 고체산화물 연료전지의 성능 특성 -KEPRI's SOFC 개발 현황-
- Yeong-Seong Yu, Jun-Ho Go
- Ceramist. 2001;4(1):82-95. Published online February 28, 2001
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